ST¸¶ÀÌÅ©·ÎÀÏ·ºÆ®·Î´Ð½º¿Í CMP´Â STÀÇ ¼¿¸¶ MEMS Á¦Á¶ °øÁ¤À» CMP»çÀÇ ½Ç¸®ÄÜ
Áß°³ ¼ºñ½º¸¦ ÅëÇØ ´ëÇб³, ¿¬±¸¼Ò, ¹× ¼³°è ȸ»çÀÇ ½ÃÁ¦Ç° ÀÛ¾÷¿¡ Á¦°øÇÑ´Ù°í ¹àÇû´Ù.
ÀÌ Á¦Á¶ °øÁ¤Àº ÀÌ¹Ì ¼ö ½Ê¾ï °³°¡ ÃâÇÏµÈ STÀÇ ¾÷°è ÃÖ»óÀÇ °¡¼Óµµ ¼¾¼¿Í ÀÚÀ̷νºÄÚÇÁ¸¦
°³¹ßÇÏ´Â µ¥ »ç¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù. ST´Â ÄÁ½´¸Ó, ÀÚµ¿Â÷, »ê¾÷¿ë ¹× ÇコÄɾî¿ë ¸ð¼Ç ¼¾½Ì
¾ÖÇø®ÄÉÀÌ¼Ç °³¹ßÀ» µ¶·ÁÇϱâ À§ÇØ ½ÃÁ¦Ç° Á¦ÀÛ ¹× ÆÄ¿îµå¸® ¼ºñ½ºÀÇ ÇüÅ·ΠŸ
¾÷ü¸¦ ÅëÇØ ÀÌ °øÁ¤ ±â¼úÀ» Á¦°øÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ST´Â ÀÚü °³¹ßÇÑ ¾÷°è ¼±µµÀÇ Á¦Á¶ °øÁ¤À» ±â¹ÝÀ¸·Î MEMS ¼¾¼¿¡¼ ¿À·£ ¼º°øÀ»
ÀÌ·ç¾î ¿Ô´Ù.
0.8¸¶ÀÌÅ©·Ð, Ç¥¸é ¸¶ÀÌÅ©·Î °¡°ø ¼¿¸¶ °øÁ¤Àº ±¸Á¶µé°ú ÀÎÅÍÄ¿³Ø¼Ç¿¡ ¾Ë¸Â°Ô
µÎ²®°í ¾ãÀº Æú¸®-½Ç¸®ÄÜ ÃþµéÀ» ´Ù¾çÇÏ°Ô °áÇÕÇÑ´Ù. µû¶ó¼, ¼±Çü ¹× °¢Çü ±â°è
ºÎºÐµéÀ» ÇÑ °³ÀÇ Ä¨¿¡ ÇÕÄ¥ ¼ö ÀÖ°í, ÀÌ´Â °í°´µé¿¡°Ô ºñ¿ë°ú »çÀÌÁîÀÇ Ãø¸é¿¡¼
»ó´çÇÑ ÀÌÁ¡ÀÌ µÈ´Ù.
CMP ¸ÖƼ-ÇÁ·ÎÁ§Æ® ¿þÀÌÆÛ ¼ºñ½º·Î, ÁÖ·Î ´ë·® »ý»ê¿¡ ¾²ÀÌ´Â °øÁ¤ ±â¼úµéÀ»
È°¿ëÇÏ¿© ÷´Ü IC¸¦ ¸î ½Ê°³ ³»Áö ¸î õ°³ Á¤µµÀÇ ¼Ò·® ´ÜÀ§·Î Á¦Á¶ÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô µÈ
°ÍÀÌ´Ù. ¼¿¸¶ °øÁ¤ ¼³°è ±ÔÄ¢ ¹× ¼³°è Å°Æ®µéÀÌ ÇöÀç ´ëÇÐÀ̳ª ¹Ì¼¼ÀüÀÚ ¾÷üµé¿¡
Á¦°ø °¡´ÉÇϸç, ÀÌ¹Ì Ã¹¹ø° ¿äûÀ» ¹Þ¾Æ ÀÀ´ëÇÏ°í ÀÖ´Ù.
CMPÀÇ ¼ºñ½º ¸ñ·Ï¿¡ STÀÇ MEMS Á¦Á¶ °øÁ¤À» Ãß°¡ÇÑ °ÍÀº ´ëÇб³³ª ¼³°è ¾÷üµéÀÌ
STÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °øÁ¤µéÀ» Á¢ÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï ÇØ¿Â ¾ç»çÀÇ ÇùÁ¶Ã¼°èÀ» ´õ¿í °ø°íÈ÷
ÇÏ´Â ÀÏÀÌ´Ù.
CMP¸¦ ÅëÇØ Á¦°øµÇ´Â STÀÇ Á¦Á¶ °øÁ¤Àº 2003³â µµÀÔµÈ 130nm CMOS °øÁ¤¿¡¼ 2012³â
ÈĹݿ¡ ½ÃÁ¦Ç° »ý»êÀ» À§ÇØ ¼Ò°³µÈ 28nm FD-SOI ±â¼ú¿¡ À̸£¸ç, À̸¦ ÅëÇØ °í¼º´É¡¿ÀúÀü·Â
¼Ò¸ð¸¦ µ¿½Ã¿¡ ¿äÇÏ´Â Â÷¼¼´ë ¸ð¹ÙÀÏ µð¹ÙÀ̽ºÀÇ È¿À²ÀûÀÎ ¼³°è¸¦ ±¸ÇöÇس½´Ù.
STÀÇ º£³×µðÅä ºñ³Ä ¼ö¼® ºÎ»çÀå °â ¾Æ³¯·Î±×, MEMS ¹× ¼¾¼ ±×·ì »ç¾÷ º»ºÎÀåÀº
¡°Çõ½ÅÀûÀÎ FD-SOI¸¦ Æ÷ÇÔÇÑ CMOS ±â¼úµé°ú ´õºÒ¾î ÀÚ»çÀÇ À¯¼öÇÑ MEMS °øÁ¤ÀÌ CMPÀÇ
÷´Ü ¼ºñ½º·Î ¼Ò·® »ý»ê¿¡ Á¦°øµÈ´Ù. À̷νá, ½º¸¶Æ® ¼¾¼ ¼³°è¿¡ ´«À» µ¹¸®´Â ½Å»ý
±â¾÷À̳ª R&D ·¦ µîÀÌ Ä¨ Á¦Á¶¿¡ ÃÖ÷´Ü ±â¼úÀ» Àû¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Àü·Ê¾ø´Â ±âȸ¸¦
¾ò°Ô µÆ´Ù. »ê¾÷È°¡ ¿Ï·áµÈ ÷´Ü ±â¼ú·Â ±â¹Ý °øÁ¤À» °£ÆíÇÏ°Ô »ç¿ëÇÒ ¼ö Àֱ⠶§¹®¿¡
±â¼úµéÀ» °³¹ßÇϱâ À§ÇÑ ½Ã°£°ú ÀÚ¿ø ÅõÀÚº¸´Ù, ÀÌÁ¦ »õ·Î¿î Á¦Ç° °³¹ß¿¡ ÁýÁß ÇÒ
¼ö ÀÖÀ» °ÍÀÌ´Ù.¡±°í ¸»Çß´Ù. |