내쇼날인스트루먼트가 고집적도 소스 측정 장치 PXIe-4163을 발표했다.

이 제품은 테스트 RF, MEMS, 혼합 신호 및 기타 아날로그 반도체 부품을 테스트하기 위한 기존의 NI PXI SMU보다 6배 향상된 DC 채널 집적도를 제공한다.

반도체 제조업체는 양산 라인의 비용과 사용 공간을 활용해 스루풋 및 성능에 대한 반도체 테스트 시스템을 빠르게 도입하고 있다.

새로 출시된 PXIe-4163 SMU는 이러한 기능을 더욱 보완한다.

이 제품은 DC 채널 집적도를 증가시켜 다중 사이트 애플리케이션의 병렬 처리 기능을 높이고, 즉시 생산 가능한 폼 팩터의 R&D 등급 측정 품질을 향상시킨다.

엔지니어는 이러한 조합을 활용하여 검증 단계와 양산 테스트에서 동일한 장치를 사용할 수 있으며, 이는 측정 상관관계 분석으로 인한 문제를 줄이고 제품 출시 기간을 단축해준다.

엔지니어는 STS 구성 또는 독립형 PXI 시스템에서 최신 PXIe-4163 SMU를 사용할 수 있다. 주요 제품 기능은 다음과 같다.

1. 단일 PXI Express 슬롯에서 최대 24개 채널 가능

2. 채널당 +/- 24V

3. 채널당 최대 100mA 소스/싱크

4. 100pA의 전류 감도

5. 최대 100kS/s의 샘플링 속도 및 업데이트 속도

6. SourceAdapt로 오버슛 및 진동 최소화

7. 인터랙티브 구성 및 디버그 소프트웨어

8. 단일 PXI 섀시에서 고정밀 SMU 채널 최대 408개 지원

9. 시스템 레벨 배선, 보정, 핀 매핑 지원 등 STS에서 완전한 지원 제공